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QL-5800E型全谱直读光谱仪_南京麒麟分析仪器有限公司
 
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  QL-5800E型全谱直读光谱仪

 QL-5800E型全谱直读光谱仪

    QL-5800E型全谱直读光谱仪采用真空光室设计及全数字激发光源。这款CMOS光谱仪,既包含了CCD光谱仪的全谱特性,又具备PMT光谱仪对非金属元素,整机设计合理,操作简单易学,具有数据标准,长期稳定性好等优点。

QL-5800E型全谱直读光谱仪应用领域

冶金、铸造、机械、科研、商检、汽车、石化、造船、电力、航空、核电、金属和有色冶炼、加工和回收工业中的各种分析。

可检测基体

铁基、铜基、铝基、镍基、钴基、镁基、钛基、锌基、铅基、锡基、银基。

QL-5800E型全谱直读光谱仪主要技术参数

v 光学系统:帕型-龙格 罗兰圆全谱真空型光学系统

v 波长范围:140~680nm

v 光栅焦距:401mm

v 探 测 器:高性能CMOS阵列/CCD阵列

v 光源类型:数字光源,高能预燃技术(HEPS)

v 放电频率:100-1000Hz

v 工作电源:AC220V 50/60Hz 1000W

v 仪器尺寸:780*565*360mm

v 仪器重量:78kg

v 检测时间:依据样品类型而定,一般20S左右

v 电极类型:钨材喷射电极

v 分析间隙:4mm

v 其他功能:真空,温度,软件自动控制;压力,通讯监测

全谱直读光谱仪 光谱分析仪主要特点

v 高性能光学系统

采用CMOS元件可测定非金属元素如C、P、S、As、B、N以及各种金属元素含量;测定结果重复性及稳定性。

v 自动光路校准

自动光路校准,光学系统自动进行谱线扫描,接收的正确性,免除繁琐的波峰扫描工作;

仪器自动识别特定谱线与原存储线进行对比,确定漂移位置,找出分析线当前的像素位置进行测定。

v 插拔式透镜设计

真空光学系统采用入射窗与真空隔离,可在真空系统工作状态下进行操作,光学透镜采用插拔式透镜结构,日常清洗维护方便快捷。

v 真空防返油技术

多级隔离的真空防返油技术,采用真空压差阀门保证真空泵不工作时真空光室与真空完全隔离;中间增加了真空滤油装置,真空泵中油不进入真空室,保障CMOS检测器及光学元件在可靠环境中工作。

v 开放式激发台

开放式激发台机灵活的样品夹设计,以满足客户现场的各种形状大小的样品分析;配合使用小样品夹具,线材低分析可达到3mm。

v 喷射电极技术

采用喷射电极技术,使用钨材料电极,在激发状态下,电极周围会形成氩气喷射气流,这样在激发过程中激发点周围不会与外界空气接触,提高激发;配上独特氩气气路设计,大大降低了氩气使用量,也降低客户使用成本。

v 集成气路模块

气路系统采用气路模块免维护设计,替代电磁阀和流量计,电极自吹扫功能,为激发创造了良好的环境。

v 数字化激发光源

数字激发光源,采用国际等离子激发光源,超稳定能量释放在氩气环境中激发样品;可任意调节光源的各项参数,满足各种不同材料的激发要求。

v 高速数据采集

仪器采用高性能CMOS检测元件,具有每块CMOS单独超高速数据采集分析功能,并能自动实时监测控制光室温度、真空度、氩气压力、光源、激发室等模块的运行状态。

v 以太数据传输

计算机和光谱仪之间使用以太网卡和TCP/IP协议,避免电磁干扰,光纤老化的弊端,同时计算机和打印机完全外置,方便升级和更换;可以远程监控仪器状态,多通路操控系统控制和监控所有的仪器参数。

v 预制工作曲线

备有不同材质和牌号的标样库,仪器出厂时工厂预制工作曲线,方便安装调试和及时投入生产;根据元素和材质对应的分析程序而稍有差异,激发和测试参数仪器出厂时已经调节好,根据分析程序可自动选择测试条件。

v 分析速度快

分析速度快,仅需20秒即可完成一次分析;针对不同的分析材料,通过设置预燃时间及测量时间,使仪器用时间达到分析效果。

v 多基体分析

光路设计采用罗兰圆结构,检测器上下交替排列,保证接收全部的谱线,不增加硬件设施,即可实现多基体分析;便于根据生产的需要增加基体及材料种类和分析元素(无硬件成本)。

v 软件中英文系统

仪器软件操作简单,完全兼容于Windows7/8/10系统。

录入时间:2018-7-4 10:32:11 【打印此页】 【关闭窗口】      
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